2011/01/18

NEDO 「次世代プリンテッドエレクトロニクス材料・プロセス基盤技術開発」の公募について

NEDOより、「次世代プリンテッドエレクトロニクス材料・プロセス基盤技術開
発」の公募について通知が届きましたのでお知らせします。

詳細は下記のHPをご確認ください。
http://www.ut-portal.u-tokyo.ac.jp/notice/index.php?q=14594


※本公募はe-Radによる申請となります。(機関承認は必要ありません。)

※別途郵送または持参による申請も必要です。


【応募締切】平成23年2月15日(火)午前12時必着


【公募説明会】
 ・応募を予定される方は可能な限り出席してください。 
 ・事前登録は不要です。
 ・日時:平成23年1月20日(木)14:30~
 ・場所:ミューザ川崎セントラルタワー 23階

―東京大学大学院理学系研究科・理学部 経理課 研究支援外部資金チーム―

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